太陽能高品質吸收膜設計與制造關鍵技術
    作者: 時間:2018-06-07 打印
     
 

  采用磁控濺射鍍膜方法,結合光學橢偏測試擬合,成功完成了多元組分復合材料成分設計及其制備工藝的優化,獲得了制備工藝穩定與光學常數穩定且適合作為太陽光譜吸收層材料的氮化鉻及氮氧化鉻化合物薄膜材料。結合光學膜系設計與磁控濺射鍍膜工藝,設計并制備獲得了一種高品質Cr-N-O太陽能吸收膜,該吸收膜吸收率、輻射率及其他環境穩定性指標如下:

  1) 太陽光譜吸收率95%(AM1.5);

  2) 輻射率(法向發射比)3.7%( 80℃);

  3) 涂層高溫耐久性:涂層表面光學性能的衰減系數0.01;

  4) 涂層的耐老化性:試驗持續 48 小時,涂層吸收率為原值的 0.99;發射率為原值的 1.00;

  5) 涂層耐鹽霧性能:中性鹽霧實驗48小時后,涂層、基材無裂紋、起泡、剝落及腐蝕,鹽霧實驗后涂層吸收率為94%,輻射率為4.9%,PC值為0.016(PC=-△α+0.5△εn△α為太陽吸收比變化值,無量綱; △εn為法向發射比變化值,無量綱;0.5為法向發射比加權因子);

  6) 涂層的附著力:無剝落,達到 GB/T1720 規定的1級。

  7)生產線生產產品大面積鍍膜均勻性達到吸收率變化小于1%,輻射率變化小于1%,產品表面顏色均勻性達到△E*≤2.0CIELAB,鍍膜成本約10元/平方米,產品合格率高于98%。

太陽能高品質吸收膜生產線